法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B11/06 授权公告日:20160406 终止日期:20170809 申请日:20130809
专利权的终止
2016-04-06
授权
授权
2013-12-18
实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/06 申请日:20130809
实质审查的生效
2013-11-20
公开
公开
机译: 光学记录介质,相同厚度的薄膜厚度测量方法,薄膜厚度控制方法,制造方法,薄膜厚度测量装置和薄膜厚度控制器
机译: 薄膜厚度测量装置,包括该薄膜厚度测量系统的系统以及薄膜厚度测量方法
机译: 具有类似薄膜或锈蚀的薄膜沉积层的基底厚度测量方法及其装置如灰尘收集器的薄膜沉积装置的厚度和维护方法