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金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法

摘要

一种金属基带的多通道连续化电解抛光装置及抛光方法,该装置包含依次顺序设置的超声波粗洗槽、第一漂洗槽、电解抛光槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽和烘干箱,超声波粗洗槽之前设置放带盘,烘干箱之后设置收带盘。使水通入超声波粗洗槽、第一漂洗槽、第二漂洗槽、中和槽、第三漂洗槽、超声波精洗槽,并使水面没过基带,使电解液循环通入电解抛光槽,并使电解抛光槽的电解液没过基带,开启步进电机,驱动基带匀速运动,进行连续电解抛光。本发明结构简单,设计合理,制造成本低,适宜于批量化的抛光生产,能够实现公里级基带的连续电解抛光,抛光后的合金基带的均方根粗糙度低于2纳米。

著录项

  • 公开/公告号CN102851729B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-04-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海超导科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201210139727.9

  • 发明设计人 李贻杰;

    申请日2012-05-08

  • 分类号

  • 代理机构上海信好专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张妍

  • 地址 201203 上海市浦东新区芳春路400号1幢3层301-15室

  • 入库时间 2022-08-23 09:37:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-04-06

    授权

    授权

  • 2013-02-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25F3/16 申请日:20120508

    实质审查的生效

  • 2013-01-02

    公开

    公开

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