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包括非易失性存储器单元的集成电路和形成非易失性存储器单元的方法

摘要

一种集成电路具有非易失性存储器单元,所述非易失性存储器单元包含第一电极、第二电极和在其间的离子导电材料。所述第一和第二电极中的至少一者具有直接抵靠着所述离子导电材料收纳的电化学活性表面。所述第二电极升高地在所述第一电极外。所述第一电极在第一方向上侧向延伸,且所述离子导电材料在不同于所述第一方向且与所述第一方向相交的第二方向上延伸。所述第一电极仅在所述第一与第二方向相交的情况下才直接抵靠着所述离子导电材料收纳。揭示了包含方法实施例的其它实施例。

著录项

  • 公开/公告号CN103180950B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN201180050740.0

  • 发明设计人 刘峻;约翰·K·查胡瑞;

    申请日2011-09-15

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人宋献涛

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2022-08-23 09:36:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-23

    授权

    授权

  • 2013-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/115 申请日:20110915

    实质审查的生效

  • 2013-06-26

    公开

    公开

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