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Nonvolatile memory cells having an embedded selection element and nonvolatile memory cell arrays including the nonvolatile memory cells

机译:非易失性存储器单元具有嵌入式选择元素和非易失性存储器单元阵列,包括非易失性存储器单元

摘要

A nonvolatile memory cell includes a semiconductor layer including a first recess and a second recess. A first gate insulation layer is disposed on a bottom surface and side surfaces of the first recess. A second gate insulation layer is disposed on a bottom surface and side surfaces of the second recess. A variable resistive material layer is disposed on a first region of the semiconductor layer disposed between the first and second recesses. An insulation barrier layer disposed on a top surface and side surfaces of the variable resistive material layer. A gate electrode surrounding the insulation barrier layer and extending to fill the first and second recesses.
机译:非易失性存储器单元包括包括第一凹部和第二凹槽的半导体层。 第一栅极绝缘层设置在第一凹槽的底表面和侧表面上。 第二栅极绝缘层设置在第二凹槽的底表面和侧表面上。 可变电阻材料层设置在设置在第一和第二凹槽之间的半导体层的第一区域上。 设置在可变电阻材料层的顶表面和侧表面上的绝缘阻挡层。 围绕绝缘阻挡层的栅电极并延伸以填充第一和第二凹槽。

著录项

  • 公开/公告号US11127897B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SK HYNIX INC.;SANG MIN LEE;

    申请/专利号US202016891291

  • 发明设计人 SANG MIN LEE;

    申请日2020-06-03

  • 分类号G11C13;H01L45;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 21:09:05

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