光罩图案分析装置及光罩图案分析方法

摘要

本发明公开了一种光罩图案分析装置及光罩图案分析方法，该方法包含以下步骤：群组一电路布局中多个多角形而形成多个多角形群；根据该电路布局的一虚像，找出任一多角形群的潜在缺陷区域；决定该任一多角形群潜在缺陷区域的代表点；决定该任一多角形群中多个多角形的代表点；以及比较该任一多角形群中多个多角形的代表点与该任一多角形群潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系以及另一多角形群中多个多角形的代表点与该另一多角形群潜在缺陷区域的代表点之间的相对分布关系。以上步骤皆由一电脑系统中的一处理器执行。