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一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法

摘要

一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法,包括:根据报出点地坐标找出相应的线端图形,找出所有目标线端图形组,每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件;量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度,以及两个目标线端之间的距离;根据所有满足条件的目标线端的量测结果,确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距;以最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件,对目标线端图形进行甄选,选出符合条件的所有非正对线端组,并对选出的线端图形进行切角处理,以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边;执行OPC修正处理。

著录项

  • 公开/公告号CN103543599B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201310561167.0

  • 发明设计人 何大权;魏芳;张旭升;

    申请日2013-11-12

  • 分类号

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陆花

  • 地址 201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 09:34:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/36 申请日:20131112

    实质审查的生效

  • 2014-01-29

    公开

    公开

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