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机译:线端缩短的快速表征以及新颖的校正算法在电子束直接写入中的应用
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies Koenigsbruecker StraBe 180 D-01099 Dresden, Germany;
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies Koenigsbruecker StraBe 180 D-01099 Dresden, Germany;
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies Koenigsbruecker StraBe 180 D-01099 Dresden, Germany;
Fraunhofer Center Nanoelectronic Technologies Koenigsbruecker StraBe 180 D-01099 Dresden, Germany;
EQUIcon Software GmbH Jena Konrad-Zuse-StraBe 2 D-07745 Jena, Germany;
EQUIcon Software GmbH Jena Konrad-Zuse-StraBe 2 D-07745 Jena, Germany;
Vistec Electron Beam GmbH Goeschwitzer StraBe 25 D-07745 Jena, Germany;
electron beam direct write; line end shortening; data prep; proximity effect correction; PEC; simulation;
机译:通过自定义的ASIC使电子束直接写入更快,更可行
机译:直写式无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片表征
机译:直写式无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片表征
机译:线端缩短的快速表征以及新颖的校正算法在电子束直接写入中的应用
机译:通过液相外延生长的铌酸锂薄膜中的直接写入电子束亚微米域工程。
机译:用于电子纺织应用的全双工天线的直接写入喷涂
机译:直接写入无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片特性