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一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法

摘要

本发明一种优化设计微反射镜阵列产生任意光刻照明光源的方法,该光刻照明系统包括微反射镜阵列和微透镜阵列,具体过程为:将设计光源和目标光源之间的均方根误差作为误差函数;同时改变所有光斑中心点在光瞳平面的位置;计算位置改变前后误差函数的变化量;基于模拟退火算法对所述变化量进行判断,确定所有光斑中心点在光瞳平面的位置;每次只改变一个光斑中心点在光瞳平面的位置,按照上述方式执行,直至所有光斑中心点在光瞳平面的位置都优化完为止;根据当前获得的所有光斑中心点在光瞳平面的位置,调节微反射镜的倾斜角,获取与目标光源相近的光刻照明光源。本发明根据优化后的位置调整所有微反射镜阵列的倾角精确实现所需要的目标光源。

著录项

  • 公开/公告号CN103941549B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201410099930.7

  • 发明设计人 李艳秋;魏立冬;

    申请日2014-03-18

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11120 北京理工大学专利中心;

  • 代理人李爱英;杨志兵

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-13

    授权

    授权

  • 2014-08-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20140318

    实质审查的生效

  • 2014-07-23

    公开

    公开

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