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能降低邻近字线或晶体管影响的半导体器件及其制作方法

摘要

本发明提供了一种能降低邻近字线影响的半导体器件,包括有:基底;第一字线,设置在基底中,及漏极/源极掺杂区,设置在第一字线两侧的基底中,其中第一字线具有第一栅极沟渠,设置在基底中;第一栅极电极,设置在第一栅极沟渠内;第一栅极介电层,设置在第一栅极电极和基底之间;及至少一个第一电荷捕捉层,邻近第一栅极电极。

著录项

  • 公开/公告号CN103165609B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南亚科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201210037153.4

  • 发明设计人 林瑄智;

    申请日2012-02-17

  • 分类号

  • 代理机构深圳新创友知识产权代理有限公司;

  • 代理人江耀纯

  • 地址 中国台湾桃园县

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-20

    授权

    授权

  • 2013-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/108 申请日:20120217

    实质审查的生效

  • 2013-06-19

    公开

    公开

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