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抗总剂量效应存储单元电路

摘要

本发明公开了一种抗总剂量效应存储单元电路,全部由PMOS管构成,包括:第一、第二PMOS管,第三、第四PMOS管和第五、第六PMOS管;第一、第二PMOS管为上拉管,第三、第四PMOS管为读出访问管,第五、第六PMOS管为写入访问管。本发明的抗总剂量效应存储单元电路可自动实现抗总剂量效应加固,具有较小的存储单元面积,可用于抗辐射航空航天及嵌入式存储器等领域。

著录项

  • 公开/公告号CN103489477B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华中科技大学;

    申请/专利号CN201310398912.4

  • 申请日2013-09-04

  • 分类号

  • 代理机构华中科技大学专利中心;

  • 代理人朱仁玲

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2022-08-23 09:32:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-01-13

    授权

    授权

  • 2014-02-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/413 申请日:20130904

    实质审查的生效

  • 2014-01-01

    公开

    公开

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