首页> 中国专利> 将相变存储器并入CMOS工艺的非易失性SRAM单元

将相变存储器并入CMOS工艺的非易失性SRAM单元

摘要

一种SRAM单元,该SRAM单元具有由CMOS技术形成的两个交叉耦合反相器以及第一和第二硫族化物元件,该第一和第二硫族化物元件与SRAM单元相集成,以将非易失性性质添加到存储单元。PCM阻抗被编程为SET状态和RESET状态,并且当加电时,SRAM单元加载包含在PCM单元中的数据。

著录项

  • 公开/公告号CN102122528B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-12-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 恒忆公司;

    申请/专利号CN201010508771.3

  • 发明设计人 R·法肯索尔;

    申请日2010-10-12

  • 分类号

  • 代理机构北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人肖冰滨

  • 地址 瑞士罗尔

  • 入库时间 2022-08-23 09:32:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-16

    授权

    授权

  • 2012-11-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/413 申请日:20101012

    实质审查的生效

  • 2011-07-13

    公开

    公开

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