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薄膜形成装置以及薄膜形成方法

摘要

本发明提供一种能够进行高精度且均匀的涂敷的薄膜形成装置以及薄膜形成方法。本发明中,是具备吸附保持涂敷对象物(100)的吸附工作台(9)、一面从喷墨式喷嘴向被吸附保持在吸附工作台(9)上的涂敷对象物(100)的表面排出涂敷材,一面进行薄膜形成的多个涂敷头(4)、使涂敷头(4)在涂敷对象物(100)的上方位置移动的龙门架(3)的薄膜形成装置(1),其中,龙门架(3)还具备将涂敷对象物(100)的表面加热的热源装置(31)。

著录项

  • 公开/公告号CN102826762B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-10-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN201210182134.0

  • 申请日2012-06-05

  • 分类号C03C17/22(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人张斯盾

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-28

    专利权的转移 IPC(主分类):C03C17/22 登记生效日:20161209 变更前: 变更后: 申请日:20120605

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-10-28

    授权

    授权

  • 2014-02-12

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C03C17/22 变更前: 变更后: 登记生效日:20140115 申请日:20120605

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-02-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C17/22 申请日:20120605

    实质审查的生效

  • 2012-12-19

    公开

    公开

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