薄膜形成装置的洗净方法

摘要

热处理装置的洗净处理包括将反应室内加热到300℃的加热工序和去除附着在热处理装置内部的氮化硅的洗净工序。在洗净工序中，将含有氟气和氯气及氮气的清洗气体供给加热到300℃反应管内，去除氮化硅而洗净热处理装置的内部。