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公开/公告号CN103764386B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-10-21
原文格式PDF
申请/专利权人 富士胶片株式会社;
申请/专利号CN201280040672.4
发明设计人 岩瀬英二郎;向井厚史;塚原次郎;
申请日2012-08-23
分类号
代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司;
代理人臧建明
地址 日本东京港区西麻布二丁目26番30号
入库时间 2022-08-23 09:30:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-10-21
授权
2014-06-04
实质审查的生效 IPC(主分类):B32B9/00 申请日:20120823
实质审查的生效
2014-04-30
公开
机译: 屏障层合物,气体屏障膜,层合物膜,注入溶液袋以及制备屏障层合物的方法
机译:具有变性PVA + MeOH的高屏障渗透性确认:二氧化硅/改性PVA有机 - 无机杂交气体阻挡膜的制造和膜特性
机译:可生物降解的石墨烯氧化物纳米片/聚 - (丁烯己二酸丁二醇酯)纳米复合膜,具有增强的气体和水蒸气屏障性能
机译:使用新颖的MBE模板方法并随后进行原子层沉积制造的具有高κHfO_2的硅金属氧化物半导体器件
机译:隧道金属 - 具有可调节屏障高度和宽度的半导体器件,用GaAs分子层外延和W CVD制造
机译:保存的临床和组织学评估:比较在实验腻子载体中具有硫酸钙屏障的同种异体移植物与具有胶原膜的牛源异种移植物的比较
机译:具有剥离的高纵横比层状硅酸盐的分层触发延迟用于增强的气体屏障机械性能和可生物降解聚合物的可降解性(全球挑战9/2020)
机译:一种新型气体导体 - 气体屏障(GC-GB)共混膜,具有可调节的气体分离能力
机译:穿孔单分子层增强化学生物屏障膜的选择渗透性