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制作光学元件成形模子的方法以及光学元件成形模子

摘要

提供了一种制作光学元件成形模子的方法,该方法包括通过FCVA工艺在用于光学元件成形模子的模子基体10上形成ta-C膜12,在其中模子基体10被保持在浮置电位,电压被施加到用于经由绝缘部件(3a,3b)保持模子基体的模子基体保持部件2,并且在模子基体中内部设置的磁体4形成用于在模子基体的转印表面的法线方向上施加磁力以使得遵循由过滤线圈22施加的磁力的磁场,由此使膜质量均质化。

著录项

  • 公开/公告号CN102933512B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-09-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能株式会社;

    申请/专利号CN201180026372.6

  • 申请日2011-05-25

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人欧阳帆

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:29:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-02

    授权

    授权

  • 2013-03-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03B11/08 申请日:20110525

    实质审查的生效

  • 2013-02-13

    公开

    公开

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