用于提高石英腐蚀表面光洁度的微掩模去除方法

摘要

本发明涉及用于提高石英腐蚀表面光洁度的微掩模去除方法，利用激光加工的刻蚀掩模板作为掩模层，对石英表面的残余金属和光刻胶进行等离子体刻蚀，刻蚀过程由清洗、对版、残余光刻胶刻蚀、残余金属刻蚀四个步骤组成，对版过程类似于接触式光刻中的图形对准工序，通过预先加工好的对准标记实现不锈钢板与元件晶片的对准，本发明克服了通过过曝光、过显影和过腐蚀去除微掩模引起的结构图形失真，保持了光刻的高精度，并融合了物理轰击和化学作用，刻蚀方向性好、速率和选择比高，去除微掩模效果明显，且操作简单，成本低，对于提高压电石英元件湿法腐蚀表面光洁度具有重要意义。