法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-10-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/30 授权公告日:20150429 终止日期:20171011 申请日:20101011
专利权的终止
2018-10-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/30 授权公告日:20150429 终止日期:20171011 申请日:20101011
专利权的终止
2015-04-29
授权
授权
2015-04-29
授权
授权
2015-04-29
授权
授权
2013-01-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/14 申请日:20101011
实质审查的生效
2013-01-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/14 申请日:20101011
实质审查的生效
2013-01-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/14 申请日:20101011
实质审查的生效
2012-11-14
著录事项变更 IPC(主分类):G03F1/14 变更前: 变更后: 申请日:20101011
著录事项变更
2012-11-14
著录事项变更 IPC(主分类):G03F1/14 变更前: 变更后: 申请日:20101011
著录事项变更
2012-11-14
著录事项变更 IPC(主分类):G03F 1/14 变更前: 变更后: 申请日:20101011
著录事项变更
2011-05-18
公开
公开
2011-05-18
公开
公开
2011-05-18
公开
公开
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机译: 激光结晶过程的掩膜和使用该掩膜的激光结晶过程
机译: 激光结晶过程的掩膜和使用该掩膜的激光结晶过程
机译: 掩膜,激光结晶装置,激光结晶方法,晶体材料和半导体器件