法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-31
授权
授权
2012-11-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/11 申请日:20101210
实质审查的生效
2012-10-03
公开
公开
机译: 用于形成抗蚀剂底层膜的组合物,抗蚀剂底层膜,形成抗蚀剂图案的方法及制造半导体器件的方法
机译: 用于制备抗蚀剂底层膜的新型聚合物,抵抗含有聚合物的底层膜组合物和使用该组合物制造半导体器件的方法
机译: 用于制备抗蚀剂底层膜的新型聚合物,抵抗含有聚合物的底层膜组合物和使用该组合物制造半导体器件的方法