法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-03
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/031 变更前: 变更后: 申请日:20110324
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2014-08-20
授权
授权
2013-10-02
著录事项变更 IPC(主分类):G03F 7/031 变更前: 变更后: 申请日:20110324
著录事项变更
2013-02-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/031 申请日:20110324
实质审查的生效
2012-12-26
公开
公开
机译: 有源光敏或辐射敏感树脂组合物,图案形成方法和使用所述胶膜的抗蚀膜,以及分别使用图案形成方法和抗蚀膜使用的电子制造膜的电子设备和电子设备的制造方法
机译: 衰减射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,电子设备的制造方法,抗蚀膜制成的掩模毛坯,抗蚀膜制成的掩模毛坯的图案形成方法
机译: 有源光敏感或辐射敏感树脂组合物,抗蚀膜,图案形成方法,制造电子设备的方法,具有抗蚀膜的面膜毛坯以及具有抗蚀膜的面膜的图案形成方法