化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺

摘要

本发明涉及一种化学气相沉积法制备氮化硼纤维织物界面层的制备工艺，属于航天纤维制备工艺领域，其特征在于：采用硅源气体和氮源气体的混合气体作为反应气体，当反应室温度达到400℃时，通入反应气体，在500-1000℃下，压力在0.5-5KPa，通过调节反应温度、气体流量和压力控制物质沉积的速度，使得氮化硼纤维界面层致密、均匀，涂层厚度为0.8-3.0μm。利用化学气相沉积工艺，采用低温、低压制备氮化硼纤维界面层，使得氮化硼纤维界面层致密、均匀，沉积的纳米级氮化硅颗粒一方面填充了纤维表面的裂缝，增强了纤维的强度。