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公开/公告号CN102495468B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 北京理工大学;
申请/专利号CN201110409462.5
发明设计人 李艳秋;杨光华;刘菲;
申请日2011-12-09
分类号
代理机构北京理工大学专利中心;
代理人杨志兵
地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号
入库时间 2022-08-23 09:16:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-11-06
授权
2012-07-11
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 27/00 申请日:20111209
实质审查的生效
2012-06-13
公开
机译: 具有施加在具有投影物镜的用于微光刻的投影曝光装置空基板上的层状结构,以及具有反射镜和反射镜的用于微光刻的那种投影物镜。
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机译:设计11纳米极紫外光刻节点的投影物镜
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