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减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法

摘要

本发明公开了一种减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法,其采用有限元仿真软件建立以反射镜中心厚度和边缘宽度为参数的待优化反射镜的有限元模型;然后加载反射镜的热边界条件和结构边界条件,采用有限元仿真软件获得反射镜各节点的结构变形,进而计算反射镜通光孔径区域2D结构变形RMS值;在有限元仿真软件中设定反射镜的中心厚度和边缘宽度为设计变量,反射镜通光孔径2D结构变形RMS值为目标函数;改变反射镜中心厚度和边缘宽度的大小,使目标函数逼近最小;将目标函数最小值对应的反射镜中心厚度和边缘宽度作为优化结果。使用本发明能够在无需引入外加装置的基础上,减小各面反射镜的变形,降低反射镜变形对曝光系统光刻性能的影响。

著录项

  • 公开/公告号CN102495468B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201110409462.5

  • 发明设计人 李艳秋;杨光华;刘菲;

    申请日2011-12-09

  • 分类号

  • 代理机构北京理工大学专利中心;

  • 代理人杨志兵

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:16:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-06

    授权

    授权

  • 2012-07-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 27/00 申请日:20111209

    实质审查的生效

  • 2012-06-13

    公开

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