首页> 中国专利> 基于异质栅极功函数的隧穿场效应晶体管及其形成方法

基于异质栅极功函数的隧穿场效应晶体管及其形成方法

摘要

本发明提出一种基于异质栅极功函数的隧穿场效应晶体管,包括:衬底;形成在所述衬底之中的沟道区,以及形成在所述沟道区两侧的源区和漏区,其中,所述漏区为第一掺杂类型,所述源区为第二掺杂类型;和形成在所述沟道区之上的栅堆叠及形成在所述栅堆叠两侧的侧墙,其中,所述栅堆叠包括第一栅介质层,所述栅堆叠至少还包括沿从所述源区到所述漏区方向分布的且形成在所述第一栅介质层之上的第一栅电极和第二栅电极,且所述第一栅电极和所述第二栅电极具有不同的功函数。由于本发明实施例在隧穿场效应晶体管中引入了横向异质栅极功函数结构,因此对沟道区的能带分布进行了调制,显著地减小了晶体管的亚阈值斜率,同时大大地提高了驱动电流。

著录项

  • 公开/公告号CN102169900B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201110049183.2

  • 发明设计人 崔宁;梁仁荣;王敬;许军;

    申请日2011-03-01

  • 分类号H01L29/78(20060101);H01L29/43(20060101);H01L21/336(20060101);H01L21/28(20060101);

  • 代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张大威

  • 地址 100084 北京市海淀区100084-82信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2011-10-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20110301

    实质审查的生效

  • 2011-08-31

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号