公开/公告号CN115509082A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-12-23
原文格式PDF
申请/专利权人 华芯程(杭州)科技有限公司;
申请/专利号CN202211395502.X
发明设计人 不公告发明人;
申请日2022-11-09
分类号G03F1/36;G03F7/20;G06N3/04;G06N3/06;G06N3/08;G06V10/764;
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人吴娟
地址 311113 浙江省杭州市余杭区良渚街道金昌路2008、2010号2幢4311室
入库时间 2023-06-19 18:04:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-12-23
公开
发明专利申请公布
机译: 光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译: 光学邻近校正方法,光学邻近校正装置和光学邻近校正程序,制造半导体装置的方法,设计规则制定方法以及光学邻近校正条件计算方法
机译: 光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序