空白掩模、光掩模及空白掩模的制备方法

摘要

本实施方式涉及空白掩模等，上述空白掩模包括透光基板及位于上述透光基板上的遮光膜。遮光膜包括过渡金属、氧及氮中的至少一种。遮光膜表面的下述第一式的Mtr值为6以下：[第一式]Mtr＝|Rsk|×Rku。在上述第一式中，上述|Rsk|是Rsk值的绝对值。如上所述的空白掩模等可以提高在涂布抗蚀剂时抗蚀膜之间的附着力，且在去除抗蚀图案时可有效地去除残留在遮光膜表面上的抗蚀剂的量。