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用于投影曝光装置的标线以及使用它的曝光方法

摘要

本发明为用于投影曝光装置的标线以及使用它的曝光方法,为了提供能够增加每个晶圆的芯片数量并且实现高精确对准的标线以及使用标线的曝光方法,第一对准标记布置区域(8)和第二对准标记布置区域(9)在多芯片区域(2)的两侧提供,以便使第一对准标记布置区域的尺寸与第二对准标记布置区域的尺寸之和与芯片区域(1)的尺寸相同。

著录项

  • 公开/公告号CN101533229B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 精工电子有限公司;

    申请/专利号CN200910128812.3

  • 发明设计人 冈野大辅;

    申请日2009-03-10

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人柯广华

  • 地址 日本千叶县千叶市

  • 入库时间 2022-08-23 09:13:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-27

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更前: 变更后: 申请日:20090310

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-04-06

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20160318 变更前: 变更后: 申请日:20090310

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-04-06

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20160318 变更前: 变更后: 申请日:20090310

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2013-03-27

    授权

    授权

  • 2011-04-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090310

    实质审查的生效

  • 2011-04-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090310

    实质审查的生效

  • 2009-09-16

    公开

    公开

  • 2009-09-16

    公开

    公开

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