一种GaAs基VECSEL激光器的衬底腐蚀方法

摘要

本发明涉及一种GaAs基VECSEL激光器的衬底腐蚀方法，本发明的方法通过特定的腐蚀液控制粗腐蚀和细腐蚀的速度，粗腐蚀的腐蚀速度快，粗腐蚀的腐蚀速率为7.33μm/min，腐蚀后表面粗糙，在显微镜下容易观察，细腐蚀的腐蚀速率放缓，细腐蚀的腐蚀速率为2μm/min，腐蚀后表面光洁，肉眼可观察到与细腐蚀表面区别，克服了现有GaAs衬底腐蚀速率慢，腐蚀效果不稳定的难题，可以快速获得表面粗糙度小，平整度高的基于VECSEL激光器GaAs外延结构。