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一种基于碳化硅单晶衬底制备近自由态单层石墨烯的方法

摘要

本发明涉及一种基于碳化硅单晶衬底制备近自由态单层石墨烯的方法,该方法主要包括硅面形成全覆盖石墨烯、超声剥离表面石墨烯获得仅有缓冲层样品和将缓冲层转化为近自由态单层石墨烯,本发明中使用分步法制备近自由态单层石墨烯,有效地利用碳化硅单晶衬底硅面外延生长石墨烯的机理及缓冲层的结构特点,插入外来原子将缓冲层转化为近自由态石墨烯。本发明方法生长的近自由态单层石墨烯质量、表面形貌、电学性能有大幅度提高,可在超快逻辑电路、光电探测器、激光调Q和高频射频器件等领域广泛应用。

著录项

  • 公开/公告号CN114214725A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东大学;

    申请/专利号CN202111540545.8

  • 申请日2021-12-16

  • 分类号C30B25/18(20060101);C30B29/02(20060101);

  • 代理机构37219 济南金迪知识产权代理有限公司;

  • 代理人张宏松

  • 地址 250199 山东省济南市历城区山大南路27号

  • 入库时间 2023-06-19 14:37:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-22

    公开

    发明专利申请公布

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