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一种基于高纯半绝缘碳化硅衬底制备周期性pn结石墨烯的方法

摘要

本发明公开一种基于高纯半绝缘碳化硅衬底制备周期性pn结石墨烯的方法,属于微电子材料技术领域。本发明采用热解碳化硅制备石墨烯的方法,首先利用氢刻蚀的方法在碳化硅衬底表面刻蚀出规则的台阶,再在刻蚀后的碳化硅硅面生长出单层石墨烯条带和缓冲层结构交替的结构。最后通过氢钝化技术将原有的缓冲层结构转变为p型导电的石墨烯,而原有单层石墨烯仍保持为n型导电。从而就可以制备出周期性pn结石墨烯。本发明方法制备的高品质周期性pn结石墨烯,可以广泛地应用在增强型光电探测器、光敏元件以及逻辑运算场效应晶体管等信息电子器件领域。

著录项

  • 公开/公告号CN111874891B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河北同光晶体有限公司;

    申请/专利号CN202010713285.9

  • 申请日2020-07-22

  • 分类号C01B32/184(20170101);H01L31/028(20060101);H01L31/103(20060101);H01L31/18(20060101);H01L29/16(20060101);H01L21/335(20060101);

  • 代理机构11901 北京盛询知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘静

  • 地址 071000 河北省保定市北三环6001号

  • 入库时间 2022-08-23 12:48:16

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