硅片外延工艺中引导气体流通的组件及外延生长装置

摘要

本发明实施例公开了一种硅片外延工艺中引导气体流通的组件及外延生长装置，该组件包括：围绕硅片的具有进气嵌入孔的基环；嵌入在进气嵌入孔中并限定出用于引导反应气体水平地朝向硅片流通的第一进气通道的第一进气引导件，其包括用于将第一进气通道分隔的多个第一隔板；设置在基环与硅片之间的环状的衬套，衬套的顶面用于引导来自第一进气引导件的反应气体朝向硅片流通；设置在第一进气引导件与衬套之间并限定出用于引导离开第一进气引导件的反应气体竖向向上地朝向硅片流通的第二进气通道的第二进气引导件，其包括用于将第二进气通道分隔并且与所述多个第一隔板相对应的多个第二隔板，第二进气引导件设置成相对于第一进气引导件保持固定。