用于平坦化旋涂膜和CVD沉积有机膜的方法

摘要

本披露内容涉及用于通过放大和控制z高度技术来平坦化衬底的技术和方法。可以针对每个器件对z高度的可变性进行建模或测量。然后可以在衬底上形成和加工相对高度图案。通过使用具有不同蚀刻速率的不同材料，可以将平坦化图案转移到该衬底或系统来形成平坦化的衬底表面以改进光刻。此外，可以使用相同的方法精确控制过渡区斜率。