一种化学放大型负性UV光刻胶、制备方法及其使用方法

摘要

本发明涉及光刻胶技术领域，且公开了一种化学放大型负性UV光刻胶，按质量百分比，所述光刻胶包括以下组分：PHS树脂10‑20％；光致产酸剂0.3‑1.5％；交联剂0.2‑2.0％；流平剂0.01‑0.05％；溶剂余量。本发明中交联剂的添加量为0.55‑0.75％，驻波效应得到改善，交联剂的添加量为0.5％时驻波效应改善最明显，效果最好。本发明配方中交联剂的添加量，即保证得到图形的成膜强度，又减小了交联程度，更能减小显影液浸泡光刻胶侧面由过曝光和欠曝光带来的差异。