法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/22 专利申请号:2021113879962 申请日:20211122
实质审查的生效
机译: 晶体管,一种制造晶体管的方法,一种半导体器件,一种制造半导体器件的方法,一种显示器件,以及一种电子器件,能够抑制水分渗透到氧化物半导体层中
机译: 晶体管,一种制造晶体管的方法,以及一种电子设备,该电子设备包括能够抑制由于外部环境而引起的特性变化的晶体管
机译: 晶体管,一种用于制造该晶体管的方法,以及包括该晶体管的电子元件,能够抑制由于光导致的晶体管的性能变化