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微纳金属膏体填孔的紧实化处理方法及微孔填充工艺

摘要

本发明公开微纳金属膏体填孔的紧实化处理方法及微孔填充工艺,其中的紧实化处理方法包括以下步骤:(1)通过抽真空让待填孔中的气体溢出,促使微纳金属膏体渗入至所述待填孔中;(2)通过外部仪器对样品基板或待填孔中的微纳金属膏体产生作用力,促使待填孔中的微纳金属膏体具有向待填孔底部移动的加速度,从而实现紧实化处理。本发明的紧实化处理方法实现对样品基板上的微纳金属膏体进行紧实化处理,让填充在待填孔中的微纳金属膏体能够更加贴合、紧致地填充在待填孔中,以提高通孔、盲孔(待填孔)的致密度以及热压烧结后的质量;本发明的微孔填充工艺,采用干湿混合填充的方式,有效提高待填孔的导电导热性能,解决孔洞和夹口问题。

著录项

  • 公开/公告号CN114093771A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东工业大学;

    申请/专利号CN202111335833.X

  • 申请日2021-11-11

  • 分类号H01L21/48(20060101);H01L23/498(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构44675 佛山市君创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王瑞长

  • 地址 510000 广东省广州市越秀区东风东路729号

  • 入库时间 2023-06-19 14:15:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/48 专利申请号:202111335833X 申请日:20211111

    实质审查的生效

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