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一种基于二次外延的InAlAs雪崩光电探测器的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于二次外延的InAlAs雪崩光电探测器的制备方法,在衬底上依次生长缓冲层、吸收层、带宽渐变层、电荷控制层、倍增层、腐蚀截止层和盖层;然后腐蚀盖层,形成中央集电区和环绕中央集电区的电场保护环,腐蚀停止在腐蚀截止层的上表面;然后在被腐蚀区域二次外延生成InP阻隔层,然后在电场保护环外围的InP阻隔层之上形成一圈环形的SiO2隔离层,之后积光学减反膜,并在n型InP中央集电区上方的光学减反膜上开出金属接触窗口;之后利用光刻胶形成上电极和金属打线板,上电极通过金属接触窗口与中央集电区接触,上电极上具有一光学入射窗口,光学入射窗口在中央集电区的上方。

著录项

  • 公开/公告号CN114093981A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京英孚瑞半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202111203804.8

  • 发明设计人 杨志茂;王斌;

    申请日2021-10-15

  • 分类号H01L31/18(20060101);H01L31/107(20060101);

  • 代理机构12251 天津创智睿诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人王海滨

  • 地址 100017 北京市西城区百万庄大街16号1号楼8层1814室

  • 入库时间 2023-06-19 14:15:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/18 专利申请号:2021112038048 申请日:20211015

    实质审查的生效

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