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公开/公告号CN114096699A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-25
原文格式PDF
申请/专利权人 硅电子股份公司;
申请/专利号CN202080050521.1
发明设计人 K·曼格尔贝格尔;W·霍维泽尔;M·什克罗鲍奈克;
申请日2020-06-24
分类号C30B15/20(20060101);C30B15/04(20060101);C30B29/06(20060101);C30B30/04(20060101);
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人过晓东
地址 德国慕尼黑
入库时间 2023-06-19 14:15:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-03-15
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B15/20 专利申请号:2020800505211 申请日:20200624
实质审查的生效
机译: 通过施加磁场的切克劳斯基法提拉硅单晶包括增大和减小颈部直径以使颈部生长,以及将颈部直径变化率控制在预定范围内
机译: 在单晶提拉装置中,该单晶提拉装置利用惯常的零切克劳斯基方法提拉单晶
机译: 硅单晶基质是通过切克劳斯基方法及其制造方法将硅单晶切成薄片而形成的
机译:在降低热对流对切克劳斯基方法生长的硅单晶质量的影响
机译:晶体和坩埚旋转对切克劳斯基生长的硅单晶界面形状的影响
机译:高纯度切克劳斯基生长的硅单晶的新浅供体中心
机译:响应面法优化控制大尺寸切克劳斯基磁性硅晶体生长的温度梯度
机译:切克劳斯基方法对钇铝石榴石晶体生长过程中热和动量传递的数值分析。
机译:改进的切克劳斯基方法从铝硅熔体中分离和回收精制硅
机译:1.用切克劳斯基方法纯化稀土化合物及其电子结构的研究(富山大学理学研究科,物理学系,硕士论文/摘要(1988年))
机译:形成β碳化硅单晶的方法