减少量测过程中光刻胶损伤的方法

摘要

本发明公开了一种减少量测过程中光刻胶损伤的方法，其包括以下步骤：步骤一，根据灵敏度和激光功率密度，形成不同模式的晶圆表面扫描方式；步骤二，在对应不同的偏振模式，形成多种扫描条件，然后对旋涂光刻胶的晶圆进行剂量试验；步骤三，同一个条件下一片晶圆的光刻胶重复扫描两次，并记录对应的Haze值，对比两次扫描后，最后得到每个条件的Haze变化值，Haze变化最小即为发生光刻胶损伤可能性最小，该条件为最佳扫描条件。本发明通过减少光刻胶对入射激光能量的吸收，从而降低激光对光刻胶的损伤。