公开/公告号CN102253630B
专利类型发明专利
公开/公告日2013-04-03
原文格式PDF
申请/专利权人 深圳市乐普泰科技股份有限公司;
申请/专利号CN201110169138.0
申请日2011-06-22
分类号
代理机构深圳市合道英联专利事务所(普通合伙);
代理人廉红果
地址 518173 广东省深圳市龙岗区横岗六约深坑深竹工业区A栋1-2楼
入库时间 2022-08-23 09:13:29
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-04-03
授权
授权
2012-05-30
著录事项变更 IPC(主分类):G03G 15/08 变更前: 变更后: 申请日:20110622
著录事项变更
2012-01-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G03G 15/08 申请日:20110622
实质审查的生效
2011-11-23
公开
公开
机译: 用于极端紫外光刻的光学表面污染物去除方法,涉及从光学表面去除污染物以形成聚合保护层,该保护层可保护光学表面免受金属化合物的污染
机译: 具有特定表面层的显影辊,具有显影辊的显影装置和具有配备有显影辊的显影装置的图像形成装置
机译: 具有特定表面层的显影辊,具有显影辊的显影装置和具有配备有显影辊的显影装置的图像形成装置