公开/公告号CN114025479A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电子科技集团公司第二十六研究所;
申请/专利号CN202111470146.9
发明设计人 余怀强;
申请日2021-12-03
分类号H05K1/14(20060101);H05K3/46(20060101);
代理机构31219 上海光华专利事务所(普通合伙);
代理人李铁
地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号
入库时间 2023-06-19 14:06:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-08
公开
发明专利申请公布
机译: 用于生物或化学反应的微系统具有一个空腔,该空腔包含垂直屏障,结构化颗粒可以在它们之间的空间中均匀,准确地分布
机译: 形成纳米线的方法,形成叠层结构的纳米线以及使用其制造垂直半导体器件和互连结构的方法以及包括其的垂直半导体器件和互连结构
机译: 形成纳米线的方法,形成叠层结构的纳米线以及使用其制造垂直半导体器件和互连结构的方法以及使用其的垂直半导体器件和互连结构