公开/公告号CN114026682A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-08
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;
申请/专利号CN202080047344.1
申请日2020-06-26
分类号H01L23/24(20060101);C08J5/18(20060101);C08L79/08(20060101);C08K5/14(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;李茂家
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 14:06:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-08
公开
国际专利申请公布
机译: 带支撑基板的电解质膜的制造方法,带支撑基板的电解质膜的制造装置,使用带支撑基板的电解质膜的催化剂层-电解质膜层叠体的制造方法以及带支撑基板的电解质膜-催化剂层-电解质膜层叠体的制造装置
机译: 绝缘膜层叠体的制造方法,绝缘膜层叠体,半导体装置的制造方法以及半导体装置
机译: 绝缘膜层叠体,制造其绝缘膜层叠体的方法,半导体装置以及制造半导体装置的方法