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用于晶圆电镀的无氰电镀金液及其应用和晶圆电镀金的方法

摘要

本发明涉及晶圆电镀金领域,公开了用于晶圆电镀的无氰电镀金液及其应用和晶圆电镀金的方法。所述无氰电镀金液包含:金源、导电盐、稳定剂、缓冲剂、调节剂和式(1)所示的聚季铵盐,其中,R1、R2各自独立地为C1‑C30的直链或支链的脂肪族、脂环族或芳香族基团;X为卤离子,n为2‑100的整数。可以有效改善晶圆上镀金厚度的均匀性,超过技术指标要求。

著录项

  • 公开/公告号CN113981495A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202111243056.6

  • 发明设计人 王彤;任长友;邓川;刘鹏;

    申请日2021-10-25

  • 分类号C25D3/48(20060101);C25D7/12(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构11283 北京润平知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘伊南;赵泽丽

  • 地址 518020 广东省深圳市罗湖区笋岗街道笋西社区宝安北路1007号笋岗七号仓七层

  • 入库时间 2023-06-19 14:03:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 3/48 专利申请号:2021112430566 申请日:20211025

    实质审查的生效

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