公开/公告号CN113964033A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-21
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社日本制钢所;
申请/专利号CN202110834452.X
申请日2021-07-21
分类号H01L21/324(20060101);H01L21/66(20060101);H01L21/67(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人马立荣
地址 日本东京都
入库时间 2023-06-19 13:57:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-01-21
公开
发明专利申请公布
机译: 用于半导体装置的激光退火方法,半导体装置,激光退火方法,用于激光退火装置的控制装置以及激光退火装置
机译: 激光退火方法,用于半导体器件,半导体器件,激光退火方法,激光退火装置的控制装置和激光退火装置
机译: 激光退火设备,用于激光退火的串行对流路径,激光束辐射装置和激光退火方法