公开/公告号CN113937076A
专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-14
原文格式PDF
申请/专利权人 天津津航计算技术研究所;
申请/专利号CN202111188607.3
申请日2021-10-12
分类号H01L23/31(20060101);H01L23/48(20060101);H01L23/29(20060101);H01L25/18(20060101);
代理机构11011 中国兵器工业集团公司专利中心;
代理人周恒
地址 300308 天津市东丽区空港经济区保税路357号
入库时间 2023-06-19 13:54:12
机译: 3D一种通过TSV技术电镀铜以高纵横比进行3D铜互连的微孔填充方法
机译: 基于硅通孔(TSV)的设备以及相关技术和配置
机译: 基于硅通孔(TSV)的设备以及相关的技术和配置