一种用于大面积软X射线波带片的制备方法

摘要

本发明提供了一种用于大面积软X射线波带片的制备方法，其首先采用电子束曝光技术得到HSQ光刻胶纳米柱，然后进行深刻蚀，将光刻胶纳米图案转移到衬底上，再去除HSQ光刻胶纳米柱，得到高深宽比的波带片模板，再交替使用原子层沉积进行两种材料填充，接着进行离子束抛光使之平坦化，再进行图形转移和抛光工艺去除了多余的材料。该工艺可以提高纳米级波带片的深宽比，而且采用全干法工艺，提升了器件制备的可靠性，使成品率提升，可以大面积制备波带片，适用于工业化量产。总体而言，该制备方法具有高效率、高可靠性等优点，可实现大批量、大面积的制备。