一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备

摘要

本发明实施例公开了一种晶圆边缘曝光装置、方法及光刻设备。其中装置包括晶圆承载模块、掩模版、掩模版驱动模块、对准模块、曝光模块及控制模块；晶圆承载模块用于承载晶圆，带动晶圆旋转；晶圆包括有效区域和围绕有效区域的边缘区域，边缘区域包括至少一个凹口单元；掩模版的形状与有效区域的形状相同；掩模版驱动模块用于驱动掩模版旋转；对准模块用于检测掩模版和晶圆的对准状态；控制模块用于控制晶圆承载模块和掩模版驱动模块的运动状态，还用于在对准模块检测到掩模版和晶圆对准时控制曝光模块对晶圆进行晶圆边缘曝光。本发明实施例的技术方案，在进行晶圆边缘曝光时可以避免对晶圆有效区域的损伤，提高产品良率。