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包括多个碳层的结构及其形成和使用的方法

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摘要

公开了用于形成包括多个碳层的结构的方法和系统，以及使用该方法或系统形成的结构。示例性方法包括形成第一碳层和第二碳层，其中第一碳层的密度和/或其它性能不同于第二碳层相应的性能。

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公开/公告号CN113699502A

专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-26

原文格式PDF
申请/专利权人 ASM IP私人控股有限公司;
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申请/专利号CN202110555371.6
发明设计人须佐圭雄;美山辽;菊地良幸;
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申请日2021-05-21
分类号C23C16/26(20060101);C23C16/50(20060101);C23C16/56(20060101);C23C16/52(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人焦玉恒
地址荷兰阿尔梅勒
入库时间 2023-06-19 13:24:42

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2023-05-26

实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/26 专利申请号:2021105553716 申请日:20210521

实质审查的生效

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机译：包括多种碳层的结构和形成和使用的方法

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