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一种具有沟槽源极场板的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管

摘要

本发明公开了一种具有沟槽源极场板的AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管,包括源极、漏极、栅极、钝化层、势垒层、沟道层、缓冲层、衬底和沟槽源极场板;其中,所述沟槽源极场板位于钝化层中,所述沟槽源极场板与源极相连,所述沟槽源极场板位于源极与栅极之间或者栅极与漏极之间。本发明在器件工作时受到HPM应力在栅极出现耦合电压时,减小栅极处的电流,减小由于HPM应力产生的高电压和高电流造成的高温,提高器件发生烧毁的耦合电压,延迟器件发生烧毁的时间,提高器件抗HPM加固特性。

著录项

  • 公开/公告号CN113658998A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202110810445.6

  • 发明设计人 费新星;王勇;孙彪;韦玮;张兴稳;

    申请日2021-07-19

  • 分类号H01L29/40(20060101);H01L29/417(20060101);H01L29/778(20060101);

  • 代理机构32203 南京理工大学专利中心;

  • 代理人岑丹

  • 地址 225001 江苏省扬州市广陵区南河下26号

  • 入库时间 2023-06-19 13:16:59

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