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提高CdZnTe探测器性能的CdZnTe/GaAs外延膜及制备方法

摘要

本发明涉及一种提高CdZnTe探测器性能的CdZnTe/GaAs外延膜及制备方法,基于P型GaAs衬底上生长CdZnTe厚膜并在Te2气氛中进行等温退火。将其制备成Au/CdZnTe/p‑GaAs/Au探测器,与退火之前相比,CdZnTe外延膜的电阻率明显提高,探测器对241Am@5.49MeVα粒子响应更加灵敏,能量分辨率提高,并且在退火之后出现了对241Am@59.5KeVγ射线的响应。本发明提供的改性方法包括衬底的预处理、CdZnTe外延膜的生长过程、CdZnTe外延膜的退火过程及辐射探测器的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN113644149A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202110852294.0

  • 申请日2021-07-27

  • 分类号H01L31/0336(20060101);H01L31/115(20060101);H01L31/18(20060101);C23C14/06(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/24(20060101);C23C14/58(20060101);

  • 代理机构61204 西北工业大学专利中心;

  • 代理人王鲜凯

  • 地址 710072 陕西省西安市友谊西路127号

  • 入库时间 2023-06-19 13:13:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-10-27

    授权

    发明专利权授予

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