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公开/公告号CN113568281A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-29
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;
申请/专利号CN202110861967.9
发明设计人 杨超;胡松;朱咸昌;刘磊;刘锡;位浩杰;金川;韩陈浩磊;
申请日2021-07-29
分类号G03F7/20(20060101);G02B13/22(20060101);G02B1/00(20060101);
代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;
代理人江亚平
地址 610209 四川省成都市双流350信箱
入库时间 2023-06-19 13:02:24
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-03
授权
发明专利权授予
机译: 用于制造投影曝光系统的反射光学元件的方法以及用于投影曝光系统的反射光学元件,投影物镜和投影曝光系统
机译: 一种通过“熔接”将两个组件连接到复合结构的方法以及由此产生的复合结构,光学元件,保持装置,投影物镜和投影曝光系统
机译: 一种用于设置投影物镜以及微胶囊的期望光学特性的方法,用于光刻投影曝光系统
机译:大视场多光学探针共聚焦显微镜的微物镜阵列开发
机译:用于超分辨率,大视场和扩展景深的小型化计算成像系统设计,应用于监视,医学成像和基于状况的维护
机译:电子投影光学系统从可变轴浸没透镜到使用可变轴浸没透镜的投影减少曝光的演变
机译:一种使用梯度索引镜头阵列的新型投影曝光系统
机译:电子束投影光刻掩模系统在曝光期间的热机械变形。
机译:一种检验依赖模型应用于北极冰投影的非排他性假设的新方法
机译:模拟加速度和物镜的像差校正光曝光电子显微镜
机译:高分辨率大视场三维全息图显示系统及其方法