公开/公告号CN113549399A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-26
原文格式PDF
申请/专利权人 万华化学集团电子材料有限公司;万华化学集团股份有限公司;
申请/专利号CN202110883514.6
申请日2021-08-03
分类号C09G1/02(20060101);H01L21/02(20060101);
代理机构
代理人
地址 264006 山东省烟台市经济技术开发区北京中路50号
入库时间 2023-06-19 13:00:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-15
授权
发明专利权授予
机译: 硅片抛光的化学机械抛光组合物及相关方法
机译: 用于抛光相变存储器件的化学机械抛光浆料组合物以及使用该化学机械抛光浆料组合物的抛光相变存储器件的方法
机译: 用于抛光相变存储器件的化学机械抛光浆料组合物以及使用该化学机械抛光浆料组合物抛光相变存储器件的方法