用于衍射图案引导的源掩模优化的方法和设备

摘要

描述了一种衍射图案引导的源掩模优化(SMO)方法。所述方法包括配置光刻设备。所述方法包括根据衍射图案来确定源变量。所述源变量区对应于光瞳的衍射图案的其中光瞳变量待被调整的一个或更多个区域。所述衍射图案中的所述源变量区包括在所述衍射图案中的所选择的关注的区的图像中的多个像素。确定所述源变量区还包括对所述图像中的所述多个像素进行二值化使得各个单独的像素被包括在所述源变量区中或被从所述源变量区排除。所述方法包括：针对所述光瞳的与所述源变量区相对应的所述一个或更多个区域来调整所述光瞳变量；以及基于经调整的光瞳变量来渲染最终光瞳。